抗性基因（ARGs）作为一种新型的环境污染物，在饮用水系统中被广泛地检出和发现，严重威胁人类公共健康。而且，抗性基因可以通过质粒、转座子等可移动遗传元件（MGE）在细菌间传播和扩散，即水平基因转移（HGT），进一步将风险扩大。因而，饮用水系统中抗性基因的水平转移日益受到关注。

中科院城市环境研究所水质安全研究组在实验室成功构建了水平基因转移模型，系统地研究了饮用水处理工艺常用的两种消毒剂（UV和氯）对水平基因转移的影响。研究发现，UV和余氯都能有效减少抗性基因的水平转移率。其中，UV和较高水平的余氯（0.3~0.5mg/l）主要是通过减少供体菌的数量，从而减少水平基因转移率。然而，较低水平的余氯（0.05~0.2mg/l）缓慢抑制水平基因转移的机理是降低相关基因的表达。本研究成果对于评估饮用水系统中抗性基因的实际健康风险，及控制其扩散和传播等方面具有重要意义。

该研究成果发表在水处理领域期刊Water Research上（Wenfang Lin, Shuai Li, Shuting Zhang, Xin Yu. Reduction in horizontal transfer of conjugative plasmid by UV irradiation and low-level chlorination. Water Research 91（2016）331-338）

全文链接：http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0043135416300203 

　　作者简介：中国科学院城市环境研究所博士生林文芳为第一作者，研究员于鑫为文章通讯作者。该工作得到国家自然科学基金（51478450, 51278482, 51408372）资助。